职位描述
面向工业制造领域对亚微米/纳米尺度结构的高精度成像与检测需求，开展前沿光学检测方法与系统研究。方向包括但不限于：干涉散射显微术、相干衍射成像（CDI）、相位恢复、共聚焦显微术、自适应光学与计算超分辨。主要聚焦于硬件系统设计与搭建，并与软件/算法团队紧密协作，实现成像仪器与软件工具的深度融合。任职要求
已获得或即将获得光学工程、应用物理、电子工程、精密仪器等相关专业学位；
具备几何光学、物理光学、傅里叶光学、激光原理、光电检测等基础知识；
了解显微镜等光学成像系统的数值模拟与光路搭建，具备一定的硬件工程实现能力；
掌握至少一种光学设计软件（如Zemax、Code V）进行光学系统设计与优化；
熟悉光学元器件（如激光器、透镜、物镜、滤光片、偏振元件、探测器等）的选型原则与性能评估方法，能够根据系统需求进行选型与验证；
了解机械设计软件（如SolidWorks、AutoCAD）的基本使用，能够与机械工程师协同完成光机结构设计；
具备科研诚信、良好的团队协作与沟通能力。
【优先考虑（具备扎实积累者）】
在校期间参与过光学、光电、显微成像、机器视觉、精密测量或仪器开发相关科研项目；
具有光学实验室实习、课程设计、毕业设计或创新创业项目经历；
具有工业界光学系统设计、搭建与调试经验，熟悉从原型到产品的转化流程；
拥有Ptychography / FPM / SIM / 干涉显微等复杂光学检测系统的硬件设计与搭建经验；
熟悉精密光机设计、公差分析、杂散光分析与抑制、系统稳定性评估等工程化方法。
